euv

ASML отмечает высокий спрос на сканеры EUV

Компания ASML сообщила о росте интереса производителей полупроводников к сканерам диапазона EUV. Массовые сканеры диапазона DUV с длиной волны 193 нм тоже пользовались повышенным спросом. За 2017 год компания поставила 161 сканер DUV, что на 21 % больше поставок 2016…
Читать дальше

Intel не выказывает заинтересованности в EUV-литографии

Мы не раз отмечали, что 2017 год стал годом сдвига процессов в подготовке перехода на полупроводниковую литографию с использованием проекции в крайнем или жёстком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). Нидерландская компания ASML оформила заказы на 21 установку NXE:3400B — это первые сканеры,…
Читать дальше

Samsung представила техпроцессы с нормами 11 нм и 7 нм EUV

Компания Samsung Electronics выпустила пресс-релиз, в котором сообщила о завершении разработки двух техпроцессов: 11-нм техпроцесса 11LPP FinFET (Low Power Plus) и 7-нм техпроцесса 7LPP FinFET. Техпроцесс с нормами 11 нм будет использовать классические сканеры с длиной волны 193 нм, а…
Читать дальше

GlobalFoundries представила пакет инструментов для проектирования 7-нм чипов

Компания GlobalFoundries выпустила официальный пресс-релиз, в котором сообщила о доступности полного пакета инструментов для проектирования 7-нм полупроводников. Техпроцесс 7LP создан в содружестве с компанией Samsung и с опорой на опыт бывших инженеров компании IBM, заводы которой с лета 2015 года…
Читать дальше

Samsung обещает начать выпуск 4-нм чипов в 2020 году

В среду компания Samsung Electronics провела конференцию, в ходе которой рассказала о планах по освоению новых технологических процессов. Подчеркнём, что это уже не слухи и утечки, а вполне обоснованная «дорожная карта». Фактически руководство к действию. Главным для нас и для…
Читать дальше

Планы AMD по выпуску GPU: Vega, Navi, EUV и отказ от услуг TSMC

В дополнение к планам по выпуску центральных процессоров корпорация Advanced Micro Devices раскрыла некоторые подробности о своих намерениях на рынке графических чипов. Судя по всему, в ближайшие несколько лет AMD планирует представлять новую графическую архитектуру раз в 1,5–2 года, а также…
Читать дальше

Полупроводниковая индустрия: переход на техпроцессы 10, 7, 6 и 5 нм

Полупроводниковая фабрика Sumsung в Остине (США) Переход с 14 нм на 10 нм станет крупнейшим технологическим скачком в плотности транзисторов за всю историю. Плотность увеличивается сразу в 2,7 раза. Таким образом, закон Мура продолжит своё действие на ближайшие годы. Издание AnandTech собрало…
Читать дальше

GlobalFoundries раскрывает планы на будущее: 7 нм в 2018 году

GlobalFoundries недавно обнародовала первые подробности о своём технологическом процессе следующего поколения — 7 нм, которое начнёт применяться в 2018 году. Первоначально GlobalFoundries продолжит использовать иммерсионную литографию и эксимерный лазер с длиной волны 193 нм (deep ultraviolet, DUV) для производства микросхем…
Читать дальше