Компания Samsung Electronics объявила о начале массового производства 14-нанометровой памяти DRAM с применением фотолитографии в жёстком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). В марте прошлого года компания поставила первую в отрасли память EUV DRAM. С тех пор количество слоев, формируемых с помощью EUV, увеличено до пяти. По словам производителя, это наиболее передовой техпроцесс в отрасли.
Он обеспечивает максимальную на сегодняшний день плотность хранения, позволяя получить с одной пластины примерно на 20% больший объем памяти. Кроме того, 14-нанометровый техпроцесс может помочь снизить энергопотребление почти на 20% по сравнению с предыдущим поколением.
По словам Samsung, новая память поможет получить «беспрецедентные скорости» до 7,2 Гбит/с, более чем вдвое превышающие максимальную скорость DDR4, равную 3,2 Гбит/с.
Samsung планирует выпускать новую память DDR5 для центров обработки данных, суперкомпьютеров и корпоративных серверов. Кроме того, запланировано увеличение плотности кристаллов до 24 Гбит.
Гибридный VTOL перешел на пассивное охлаждение батарей: новый подход Jaunt
В Техасе на месте выставочного комплекса возведут дата-центр на 245 МВт
Kioxia анонсировала SSD стандарта PCIe 6.0 со скоростью 100 млн IOPS для расширения памяти ИИ-ускорителей
Власти Великобритании разрешили построить дата-центр на 5,2 МВт на территории исторической пивоварни Truman Brewery
Исследователи проложили «четырёхполосную магистраль» на одном фотонном чипе
Xiaomi представила недорогую 4K-камеру с двумя объективами и искусственным интеллектом
Ноутбуки HP, Asus и Acer перешли на китайские чипы памяти CXMT из-за нехватки DRAM
В США в сентябре стартуют продажи нового мотоцикла Ural Neo 500