euv

Imec и ASML показали получение линий с шагом 24 нм с использованием EUV-литографии с одной экспозицией

25.02.2020

На проходящей сейчас конференции SPIE Advanced Lithography Conference институт imec и компания ASML объявили о прорыве в EUV-литографии. Речь идет о формировании линий с шагом 24 нм с применением всего одной экспозиции. Линии с таким шагом соответствуют размерам критически важных…

Как фирма из Эйндховена стала монополистом на рынке современного оборудования для производства микросхем

02.03.2020

asml, canon, euv, Miran, nikon, аренда стоек, Васенаарские договоренности, дата-центр "Миран", закон мура, олово, плазма, полупроводниковая фабрика, сканер EUV, СПБ серверы, ступпер, травление интегральных схем, фотолитография, экстремальный ультрафиолет

Степпер ASML: ключевое звено в производстве микросхем. На нём производится засветка фоторезиста через маску, как в фотоувеличителе. Стоимость прибора около $170 млн У всех на слуху компании Intel, Samsung и TSMC — три крупнейших в мире производителя микросхем (последняя выполняет заказы для…

Конгрессмены попросили президента США запретить продажу ПО для разработки полупроводниковых чипов Китаю

19.04.2021

euv, китай, процессоры, сша, торговые войны

Несколько конгрессменов требуют запрета продажи любого ПО для разработки современных полупроводниковых элементов КНР. Речь идет об основополагающих технологиях, которые американцы считают важной частью национальной безопасности страны. В настоящее время лишь Samsung и TSMC освоили 5-нм техпроцесс. Китайские компании осваивают пока…

Производство с нормами 5 нм и сканерами EUV может быть отложено

01.03.2018

5-нм, 7 нм, euv, samsung electronics, литография, производство микросхем

В принципе, началу производства 7-нм чипов с использованием полупроводниковой литографии в крайнем ультрафиолетовом диапазоне уже ничего не мешает. Как уже не раз сообщалось, компания Samsung приступит к выпуску 7-нм продукции во второй половине текущего года. Она первой начнёт использовать сканеры…

Intel не выказывает заинтересованности в EUV-литографии

11.10.2017

euv, intel, контрактное производство, литография, производство микросхем

Мы не раз отмечали, что 2017 год стал годом сдвига процессов в подготовке перехода на полупроводниковую литографию с использованием проекции в крайнем или жёстком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). Нидерландская компания ASML оформила заказы на 21 установку NXE:3400B — это первые сканеры,…

Полупроводниковая индустрия: переход на техпроцессы 10, 7, 6 и 5 нм

15.05.2017

10 нм, euv, GlobalFoundries, intel, samsung, SMIC, tsmc, umc, полупроводниковая индустрия, процессоры

Полупроводниковая фабрика Sumsung в Остине (США) Переход с 14 нм на 10 нм станет крупнейшим технологическим скачком в плотности транзисторов за всю историю. Плотность увеличивается сразу в 2,7 раза. Таким образом, закон Мура продолжит своё действие на ближайшие годы. Издание AnandTech собрало…

ASML задержит сканеры следующего поколения — и это очень хорошо для неё

07.06.2021

asml, euv, нанолистовые транзисторы, наноэлектроника, полупроводниковая фабрика, сканер EUV, травление интегральных схем, фотолитография, экстремальный ультрафиолет

Будущий сканер ASML с высокой числовой апертурой 0,55 (high-NA EUV) стоимостью примерно $300 млн. Источник: презентация ASML Голландская компания ASML — монополист на рынке оборудования для фотолитографии в глубоком ультрафиолете (EUV) с запасом технологического лидерства на несколько лет перед конкурентами.…

Samsung начинает производство 7-нанометровой продукции с использованием EUV

18.10.2018

euv, samsung

Компания Samsung Electronics объявила о завершении разработки технологического процесса 7LPP и начале производства полупроводниковой продукции с его использованием. Этот 7-нанометровый техпроцесс, оптимизированный по критерию энергопотребления, построен на использовании литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). По словам одного из руководителей Samsung,…

На новой производственной линии Samsung Electronics начат серийный выпуск продукции с применением EUV-литографии

20.02.2020

euv, samsung

Компания Samsung Electronics объявила о начале серийного производства полупроводниковой продукции на новой линии, расположенной в Хвасоне, Корея. Производственная линия V1 стала первой линией Samsung, специализирующейся на выпуске продукции исключительно с применением EUV-литографии с технологических норм 7 нм и менее. Она…

Samsung представила техпроцессы с нормами 11 нм и 7 нм EUV

12.09.2017

11-нм, 7 нм, euv, samsung electronics, производство микросхем, техпроцессы

Компания Samsung Electronics выпустила пресс-релиз, в котором сообщила о завершении разработки двух техпроцессов: 11-нм техпроцесса 11LPP FinFET (Low Power Plus) и 7-нм техпроцесса 7LPP FinFET. Техпроцесс с нормами 11 нм будет использовать классические сканеры с длиной волны 193 нм, а…

euv

Imec и ASML показали получение линий с шагом 24 нм с использованием EUV-литографии с одной экспозицией

Как фирма из Эйндховена стала монополистом на рынке современного оборудования для производства микросхем

Конгрессмены попросили президента США запретить продажу ПО для разработки полупроводниковых чипов Китаю

Производство с нормами 5 нм и сканерами EUV может быть отложено

Intel не выказывает заинтересованности в EUV-литографии

Полупроводниковая индустрия: переход на техпроцессы 10, 7, 6 и 5 нм

ASML задержит сканеры следующего поколения — и это очень хорошо для неё

Samsung начинает производство 7-нанометровой продукции с использованием EUV

На новой производственной линии Samsung Electronics начат серийный выпуск продукции с применением EUV-литографии

Samsung представила техпроцессы с нормами 11 нм и 7 нм EUV

Паблик ВКонтакте

Последние посты