euv

Samsung начинает массовое производство 14-нанометровой памяти DRAM DDR5 с применением EUV

euv, samsung
Компания Samsung Electronics объявила о начале массового производства 14-нанометровой памяти DRAM с применением фотолитографии в жёстком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). В марте прошлого года компания поставила первую в отрасли память EUV DRAM. С тех пор количество слоев, формируемых с помощью EUV,…
Читать дальше

ASML задержит сканеры следующего поколения — и это очень хорошо для неё

Будущий сканер ASML с высокой числовой апертурой 0,55 (high-NA EUV) стоимостью примерно $300 млн. Источник: презентация ASML Голландская компания ASML — монополист на рынке оборудования для фотолитографии в глубоком ультрафиолете (EUV) с запасом технологического лидерства на несколько лет перед конкурентами.…
Читать дальше

Конгрессмены попросили президента США запретить продажу ПО для разработки полупроводниковых чипов Китаю

Несколько конгрессменов требуют запрета продажи любого ПО для разработки современных полупроводниковых элементов КНР. Речь идет об основополагающих технологиях, которые американцы считают важной частью национальной безопасности страны. В настоящее время лишь Samsung и TSMC освоили 5-нм техпроцесс. Китайские компании осваивают пока…
Читать дальше

Руководитель Intel Пэт Гелсинджер: слишком много микросхем производится в Азии

Ограждение завода Intel в Лейкслипе, Ирландия. Фото: PA MEDIA Новый исполнительный директор Intel Пэт Гелсинджер не считает приемлемым, что 80% микросхем в мире производится в Азии, где доминирующими игроками являются тайваньская TSMC и южнокорейская Samsung. Новый CEO объявил о планах…
Читать дальше

У ASML готовы пелликулы для EUV-литографии

asml, euv
Компания ASML завершила разработку пелликул, подходящих для фотолитографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). Пелликулами называются ультратонкие прозрачные мембраны для защиты фотошаблонов от попадания на них частиц, которые приводят к появлению дефектов в чипах. В отсутствие пелликул производителям, уже использующим EUV,…
Читать дальше

Крупный производитель микросхем памяти закупит оборудование для EUV-литографии на сумму 4,34 млрд долларов

asml, euv, sk hynix
По сообщению источника, южнокорейская компания SK Hynix, являющаяся вторым по величине производителем микросхем памяти в мире, объявила о подписании контракта с ASML Holding NV. По условиям соглашения, рассчитанного на пять лет, нидерландский производитель оборудования для полупроводникового производства поставит SK Hynix…
Читать дальше

Как делают микропроцессоры. Польский химик, голландские монополисты и закон Мура

Современные микропроцессоры поражают своей сложностью. Наверное, это высочайшие технологические достижения человеческой цивилизации на сегодняшний день, наряду с программированием ДНК и автомобилями Tesla, которые после заказа через интернет сами приезжают к вашему дому. Удивляясь красоте какой-нибудь микросхемы, невольно думаешь: как же…
Читать дальше

Samsung начинает серийный выпуск чипов памяти LPDDR5 DRAM плотностью 16 Гбит

euv, samsung
Компания Samsung Electronics  объявила, что на ее второй производственной линии в Пхёнтхэке, Корея, началось массовое производство первых в отрасли 16-гигабитных чипов мобильной памяти DRAM LPDDR5. Это первая в отрасли оперативная память LPDDR5 DRAM, изготовленная по технологии третьего поколения 10-нанометрового класса…
Читать дальше

Как фирма из Эйндховена стала монополистом на рынке современного оборудования для производства микросхем

Степпер ASML: ключевое звено в производстве микросхем. На нём производится засветка фоторезиста через маску, как в фотоувеличителе. Стоимость прибора около $170 млн У всех на слуху компании Intel, Samsung и TSMC — три крупнейших в мире производителя микросхем (последняя выполняет заказы для…
Читать дальше

Imec и ASML показали получение линий с шагом 24 нм с использованием EUV-литографии с одной экспозицией

asml, euv, imec
На проходящей сейчас конференции SPIE Advanced Lithography Conference институт imec и компания ASML объявили о прорыве в EUV-литографии. Речь идет о формировании линий с шагом 24 нм с применением всего одной экспозиции. Линии с таким шагом соответствуют размерам критически важных…
Читать дальше