литография

Нанопечатная литография: крылья цикад и лак для ногтей

28.10.2020

биотехнологии, гидрофильность, гидрофобность, крылья, литография, наноструктуры, нанотехнологии, насекомые, поверхности, репликация, цикады

С точки зрения взаимодействия с жидкостями, грубо говоря, есть два типа материалов: гидрофильные и гидрофобные. Губки для мытья посуды, например, относятся к первой группе, так как отлично впитывают жидкости. Примером вторых могут быть листья многих растений, ибо они отталкивают жидкости.…

Производство с нормами 5 нм и сканерами EUV может быть отложено

01.03.2018

5-нм, 7 нм, euv, samsung electronics, литография, производство микросхем

В принципе, началу производства 7-нм чипов с использованием полупроводниковой литографии в крайнем ультрафиолетовом диапазоне уже ничего не мешает. Как уже не раз сообщалось, компания Samsung приступит к выпуску 7-нм продукции во второй половине текущего года. Она первой начнёт использовать сканеры…

ASML отмечает высокий спрос на сканеры EUV

19.01.2018

7 нм, asml, euv, литография, производство микросхем

Компания ASML сообщила о росте интереса производителей полупроводников к сканерам диапазона EUV. Массовые сканеры диапазона DUV с длиной волны 193 нм тоже пользовались повышенным спросом. За 2017 год компания поставила 161 сканер DUV, что на 21 % больше поставок 2016…

Представлен образец ReRAM с высокой устойчивостью к износу

24.11.2017

reram, литография, производство микросхем, разработчики, флеш-память

В мае прошлого года мы рассказывали об израильском стартапе Weebit Nano, который за два года из никому не известной группы инженеров превратился в компанию с акциями, котирующимися на Австралийской бирже. Весной 2016 года произошло так называемое обратное поглощение, когда австралийская…

Intel не выказывает заинтересованности в EUV-литографии

11.10.2017

euv, intel, контрактное производство, литография, производство микросхем

Мы не раз отмечали, что 2017 год стал годом сдвига процессов в подготовке перехода на полупроводниковую литографию с использованием проекции в крайнем или жёстком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). Нидерландская компания ASML оформила заказы на 21 установку NXE:3400B — это первые сканеры,…

В Китае первые EUV-сканеры ASML будут установлены в 2019 году

04.10.2017

7 нм, asml, китай, литография, производство микросхем

В текущем году так называемая EUV-литография — система проекции для производства полупроводников с использованием излучения с длиной волны 13,5 нм — достигла коммерческой зрелости. Производством литографических EUV-сканеров занимается нидерландская компания ASML. В настоящий момент ASML поставила клиентам 14 опытных EUV-сканеров…

GlobalFoundries представила пакет инструментов для проектирования 7-нм чипов

15.06.2017

7 нм, euv, GlobalFoundries, литография, производство микросхем

Компания GlobalFoundries выпустила официальный пресс-релиз, в котором сообщила о доступности полного пакета инструментов для проектирования 7-нм полупроводников. Техпроцесс 7LP создан в содружестве с компанией Samsung и с опорой на опыт бывших инженеров компании IBM, заводы которой с лета 2015 года…

Уровень брака при производстве 10-нм чипов может быть выше ожидаемого

26.12.2016

10 нм, samsung electronics, tsmc, литография, производство микросхем

Как известно, некоторое время назад компания Samsung официально сообщила о начале массового производства микросхем с использованием 10-нм FinFET техпроцесса. Компания TSMC также должна уже начать массовый выпуск 10-нм решений, но пока она не делала на этот счёт громких заявлений. В…

[Перевод] Ведущие производители чипов присматриваются к фотолитографии в глубоком ультрафиолете

08.11.2016

wafer, изготовление процессоров, литография, подложка

EUV-сканер ASML NXE:3300B распечатывает чипы в лаборатории политехнического института SUNY Даже после того, как вы натянули защитный костюм и проникли в цех Fab 8, его масштаб сложно оценить. Многие ряды высоких машин-«инструментов», занимают большую часть места на фабрике GlobalFoundries стоимостью…

Гибридные наноантенны — новая платформа для сверхплотной записи информации и создания наноустройств следующего поколения

02.05.2016

квантовые компьютеры, кванты, литография, нанотехнологии, наночастицы, оптика, фотоны

Объединенная группа российских физиков разработала концептуально новую платформу на основе гибридных металло-диэлектрических наноантенн, открывающую возможность для эффективного управления светом и сверхплотной записи информации. Новая технология открывает возможности изготовления наночипов для оптических компьютеров следующего поколения и позволяет создавать широкий спектр эффективных…

литография

Нанопечатная литография: крылья цикад и лак для ногтей

Производство с нормами 5 нм и сканерами EUV может быть отложено

ASML отмечает высокий спрос на сканеры EUV

Представлен образец ReRAM с высокой устойчивостью к износу

Intel не выказывает заинтересованности в EUV-литографии

В Китае первые EUV-сканеры ASML будут установлены в 2019 году

GlobalFoundries представила пакет инструментов для проектирования 7-нм чипов

Уровень брака при производстве 10-нм чипов может быть выше ожидаемого

[Перевод] Ведущие производители чипов присматриваются к фотолитографии в глубоком ультрафиолете

Гибридные наноантенны — новая платформа для сверхплотной записи информации и создания наноустройств следующего поколения

Паблик ВКонтакте

Последние посты