Nikon бросает вызов ASML: доступная альтернатива дефицитным литографическим сканерам уже в разработке

Японский технологический гигант Nikon ставит перед собой амбициозную цель — восстановить влияние на рынке оборудования для производства микроэлектроники. В планах компании — предложить рынку системы на основе фторида аргона (ArF) по гораздо более привлекательной стоимости, чем у нынешнего отраслевого лидера, компании ASML. Об этом в недавнем интервью изданию Nikkei Asia сообщил Ясухиро Омура, вступивший в должность президента и генерального директора Nikon в апреле текущего года.

По заявлению Омуры, компания сейчас ведет интенсивные переговоры с ключевыми игроками полупроводниковой индустрии в США и Азиатско-Тихоокеанском регионе. Стороны находятся на финальной стадии обсуждения поставок, и сделки близки к подписанию.

Стратегия Nikon сосредоточена на сегментах, где нидерландская ASML не обладает монопольным статусом. В то время как сектор экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), необходимой для выпуска наиболее совершенных чипов, полностью контролируется ASML (Nikon прекратила подобные разработки еще в 2008 году), в сфере глубокого ультрафиолета (DUV) конкурентная борьба все еще актуальна.

Иммерсионная ArF-литография считается «зрелой» технологией, но она остается фундаментом производства: даже при создании ультрасовременных 3-нм кристаллов большинство операций по фотолитографии требует использования именно ArF-оборудования. Учитывая, что стоимость продвинутых сканеров ASML достигает 82,5 млн долларов, Nikon видит реальную возможность переманить заказчиков за счет более выгодных финансовых условий.

«Собственное производство большинства компонентов дает нам серьезный рычаг для оптимизации себестоимости и ведения агрессивной ценовой политики», — отметил Ясухиро Омура.

На данный момент Nikon и ASML являются единственными в мире разработчиками ArF-литографов. Спрос на эту технику подогревается глобальным ажиотажем вокруг технологий искусственного интеллекта, который испытывает производственные мощности на прочность. В 2025 году компания ASML поставила заказчикам 48 EUV-установок и 131 иммерсионную систему DUV.

Глава Nikon убежден, что производители чипов заинтересованы в диверсификации цепочек поставок, чтобы избежать полной зависимости от одного вендора и чрезмерного роста капитальных затрат. Тем не менее, путь к возвращению рыночной доли будет тернистым: объемы поставок ArF-систем Nikon значительно снизились, а прошлый финансовый год компания закрыла с чистым убытком в 86 млрд иен (около 540 млн долларов).

Для вывода компании из кризиса руководство намерено сфокусироваться исключительно на двух маржинальных направлениях: производстве фототехники и оборудования для изготовления чипов. Ключевым этапом этой стратегии станет запуск инновационной иммерсионной ArF-платформы, запланированный на 2028 финансовый год. Она будет оснащена оптикой нового поколения, высокоточной системой позиционирования пластин и предложит полную совместимость с существующей инфраструктурой, созданной на базе оборудования ASML.

Источник: iXBT