В России разработан первый национальный литограф с разрешением 350 нм, а к 2026 году планируют создать установку с разрешением 130 нм

Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) успешно сообщил о завершении разработки и успешном прохождении государственной аттестации первого фотолитографа, произведенного в России. Эта установка, способная создавать интегральные схемы с точностью до 350 нанометров, является важным шагом вперед для прогресса отечественной микроэлектроники.

Новый литограф характеризуется существенными улучшениями по сравнению с предыдущими версиями. Площадь рабочего поля расширена до 22х22 мм вместо предыдущих 3,2х3,2 мм, а максимальный диаметр обрабатываемых пластин увеличен до 200 мм с ранее возможных 150 мм. Кроме того, впервые в российском литографе используется в качестве источника света твердотельный лазер, который заметно надежнее и мощнее ртутной лампы.

Эта разработка осуществлялась совместно с белорусской компанией «Планар» в рамках государственных контрактов, выигранных ЗНТЦ в 2021 году. В настоящее время центр проводит адаптацию технологических процессов в соответствии с запросами своих клиентов и ведет переговоры о поставках первых устройств для обновления существующих и создания новых производственных мощностей в микроэлектронике. Среди потенциальных клиентов упоминается компания «Микрон». ЗНТЦ также намеревается завершить разработку литографа с разрешением 130 нм к 2026 году.

Источник: iXBT