Россия создаст собственный литограф для техпроцесса 90 нм

На 2026 год в России запланирован старт опытно-конструкторских работ по созданию литографического оборудования, предназначенного для формирования микросхем по технологическим нормам 90 нм. Как сообщает CNews, об этом заявил заместитель главы Минпромторга Василий Шпак в рамках XXI отраслевой научно-технической конференции, состоявшейся 20 марта. Выбор исполнителя проекта будет осуществлен на конкурсной основе.

Визуализация подготовлена с помощью нейросети ChatGPT

Одним из наиболее вероятных претендентов на реализацию проекта считается Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ), который в партнерстве с белорусским предприятием «Планар» уже ведет разработку литографов для техпроцессов 350 и 130 нм. Впрочем, представители ЗНТЦ пока не подтвердили намерение участвовать в новом тендере, поскольку текущие обязательства по созданию 130-нм степпера рассчитаны до ноября 2026 года.

По мнению экспертного сообщества, конструирование 90-нм установки на базе имеющейся технологической платформы потребует от двух до четырех лет интенсивной работы и инвестиций в размере сотен миллионов долларов. Основные вызовы связаны не столько с общей архитектурой системы, сколько с необходимостью обеспечения производства прецизионной оптикой, фотошаблонами, специфическими материалами и привлечением высококвалифицированных инженерных кадров.

На текущий момент в РФ завершена работа над литографом для топологии 350 нм и продолжается создание оборудования для выпуска чипов 130 нм. Прогнозируется, что стоимость серийного образца такой установки составит порядка 6 млн долларов при расчетной мощности 100–140 пластин в час.

Источник: iXBT