Министерство промышленности и торговли инициировало реализацию двух масштабных проектов, направленных на создание отечественных систем эпитаксии. Данная технология критически важна для формирования слоев кремния, кремний-германия, а также структур на базе арсенидов индия, галлия и алюминия. Согласно информации CNews, целью этих разработок является полноценное импортозамещение высокотехнологичных установок от американской компании Veeco, французской Riber и нидерландского производителя ASM, доступ к которым для российских предприятий в настоящее время закрыт.

На реализацию инициативы «Эпитаксия-SiGe» выделено государственное финансирование в размере 463,7 млн рублей. Задача проекта — спроектировать комплекс для осаждения слоев кремний-германия на 200-миллиметровые кремниевые подложки с применением метода газофазной эпитаксии, что позволит заменить голландскую систему ASM Epsilon 2000. Программа работ включает в себя проектирование реакторной зоны, автоматизированного манипулятора для загрузки и специализированного узла для предварительной очистки поверхности. Срок сдачи проекта — июнь 2029 года.
Второй проект, получивший название «Цитадель», обеспечен бюджетом в 1,5 млрд рублей. Его цель — разработка установки для молекулярно-лучевой эпитаксии, предназначенной для синтеза гетероструктур на базе сложных полупроводниковых соединений. Новая система призвана стать полноценной альтернативой зарубежным решениям Riber 49 и Veeco GEN200. Ожидается, что все этапы разработки будут завершены к октябрю 2030 года.
Ключевым условием реализации обоих проектов выступает максимальная локализация производства. Все значимые компоненты, включая прецизионные вакуумные насосы и камеры, молекулярные источники, программное обеспечение, а также системы управления и запорную арматуру, должны быть разработаны внутри страны. Использование импортных комплектующих допускается исключительно в крайних случаях и требует обязательного санкционирования со стороны Минпромторга.
Источник: iXBT

_large.jpg)
