Замглавы Минпромторга РФ Василий Шпак дал большое интервью РИА «Новости», в котором осветил тему российской микроэлектроники. По словам чиновника, уже в следующем году в России начнется производство отечественного литографа. Правда, о производстве передовых однокристальных систем речи не идет: литограф будет способен производить чипы по топологии 350 нм. На 2026 год запланировано создание литографа, который сможет производить чипы с топологией 130 нм.
«Понятно, что одномоментно, не пройдя весь путь, сделать оборудование на тонких топологиях невозможно. Такая литография на сегодняшний момент представлена только двумя компаниями в мире: голландской ASML и японской Nikon. Больше никто в мире не может этого делать. Мы сейчас встали на этот путь, причем не одни, а вместе с белорусами. Китай в этом направлении тоже идет. Началась гонка», – сказал Василий Шпак.
В Минпромторге не видят проблем в том, что не получится освоить более тонкие техпроцессы, так как производство чипов по техпроцессу 45 нм и меньше существенно лишь для процессоров и памяти, но это составляет только 10-15% рынка в денежном и количественном выражении.
«Вся остальная микроэлектроника, а это микроконтроллеры, силовая электроника, телекоммуникационные схемы, автомобильная электроника, как и многое другое, будет работать исходя из требований технологии и экономики в диапазоне топологических размеров 350-65 нанометров еще долгие годы, а это примерно 60% рынка. По мнению экспертов, эта технология очень востребована в мире и будет еще востребована долгое время. 10 лет минимум», – пояснил Василий Шпак.
Источник: iXBT
