Россия создаст собственный литограф для техпроцесса 90 нм
На 2026 год в России запланирован старт опытно-конструкторских работ по созданию литографического оборудования, предназначенного для формирования микросхем по технологическим нормам 90 нм. Как сообщает CNews, об этом заявил заместитель главы Минпромторга Василий Шпак в рамках XXI отраслевой научно-технической конференции, состоявшейся 20 марта. Выбор исполнителя проекта будет осуществлен на конкурсной основе. Визуализация подготовлена с помощью нейросети...









