Китай впервые продемонстрировал прототип отечественного EUV-источника для передовой литографии

Китайский стартап Landau Flint впервые продемонстрировал опытный образец источника экстремального ультрафиолетового (EUV) излучения, предназначенного для прецизионной литографии в полупроводниковой промышленности. Премьера состоялась на 26-й Шанхайской международной промышленной выставке. Как сообщает авторитетное издание Liberation Daily, степень импортозамещения в разработке достигает впечатляющих 90%, а подавляющая часть критически важных узлов создана силами инженеров компании.

EUV-генераторы заслуженно считаются ключевым элементом литографических сканеров, необходимых для выпуска передовых полупроводников по топологическим нормам 7 нм и ниже. В течение долгих лет эти критические технологии оставались монополией западных корпораций, а Пекин сталкивался с жесткими санкционными барьерами. Прорыв в создании собственного источника света знаменует собой важнейший рубеж на пути к технологическому суверенитету китайского микроэлектронного машиностроения.

По заверениям разработчиков, архитектура представленного прототипа концептуально близка к передовым мировым аналогам и уже пригодна для экспериментального экспонирования кремниевых пластин. Тем не менее, о коммерческом внедрении говорить преждевременно: по прогнозам экспертов стенда, путь к конвейерному производству займет от трех до пяти лет. Главными вызовами для инженеров остаются наращивание мощности излучения и обеспечение долговечной непрерывной работы установки.

На корпоративном портале Landau Flint анонсировано сразу несколько профильных решений: высокопроизводительный излучатель FlintMicro-LPP Alpha01, комплекс EUV-литографии на базе лазерно-плазменного метода, а также компактная установка FlintNano LPP-OXXO. Представители фирмы отмечают, что линейка Flint Micro-LPP уже подтвердила свою жизнеспособность на этапе концепт-тестов, в то время как Flint Nano-LPP готовится к коммерциализации.

Согласно технической документации, модель FlintNano LPP-OXXO агрегирована лазером на 1000 Вт с рабочей частотой 1–20 кГц. Заявленный выход EUV-лучей превышает 15 Вт при автономности свыше 100 часов непрерывного функционирования. Кроме того, разработчики декларируют стабильность плазмы на отметке 3% RMS и показатель энергетической стабильности в 5%. Безусловно, для полноценного промышленного применения этих параметров пока недостаточно — коммерческие конвейерные EUV-системы требуют мощностей сотен ватт вкупе с бескомпромиссной надежностью.

Компания Landau Flint была учреждена в 2024 году выходцами из академической среды — специалистами лаборатории газоразрядной плазмы Университета Цинхуа. Стартап специализируется на проектировании оборудования для чипмейкеров и создании софта для моделирования плазменных процессов. В период 2025–2026 годов фирма успешно закрыла несколько инвестиционных раундов, заручившись поддержкой таких фондов, как Woyan Capital и SMIC Capital.