Intel начала серийный выпуск процессоров с применением литографии High-NA EUV

Корпорация Intel совершила важный технологический прорыв, внедрив литографию со сверхвысокой числовой апертурой (High-NA EUV) в процесс серийного выпуска пользовательских процессоров. Передовые системы задействованы в изготовлении определенных слоев чипов Intel Core Ultra Series 3, известных под кодовым названием Panther Lake. Ранее возможности оборудования этого класса ограничивались исключительно лабораторными изысканиями и тестированием опытных образцов.

В распоряжении Intel находятся литографические сканеры ASML серии EXE, где показатель числовой апертуры доведен до 0,55 (для сравнения, у предшествующих систем NXE он составляет 0,33). Увеличение этого параметра позволило существенно улучшить разрешающую способность оптического тракта: показатели выросли с 13 до 8 нм, что открывает путь к созданию еще более миниатюрных структур на кристалле, независимо от маркетинговых названий техпроцессов.

На данный момент переход на High-NA носит гибкий характер. Intel валидировала два сценария производства для ряда слоев Panther Lake — как на базе классических систем NXE, так и на новейших установках EXE. Такая стратегия позволяет компании варьировать производственную нагрузку и не ограничиваться эксклюзивным использованием дорогостоящего оборудования.

Согласно отчету Reuters, стоимость одной такой высокотехнологичной системы достигает $400 млн, что практически вдвое превышает цену стандартных EUV-сканеров. Инвестиции не ограничиваются лишь закупкой железа: компании необходимо адаптировать фоторезисты, шаблоны и измерительные методики, что требует колоссальных усилий по перестройке всех производственных циклов.

Ключевое достоинство High-NA EUV заключается в возможности сократить число операций экспонирования при формировании сложных элементов. Это оптимизирует цикл выпуска кремниевых пластин, снижает количество дефектов, минимизирует погрешности при совмещении слоев и сокращает затраты материалов. Итоговая экономическая эффективность будет зависеть от сложности архитектуры конкретных чипов и масштабируемости производства.

Для Intel успех этого проекта имеет критическое стратегическое значение. Масштабирование опыта работы с Panther Lake укрепляет позиции подразделения Intel Foundry в жесткой конкурентной борьбе с гигантами уровня TSMC и Samsung. Первые товарные партии процессоров, выпущенные с применением High-NA, станут индикатором зрелости технологии для всей полупроводниковой индустрии.

Источник: iXBT