ASML анонсирует литографическую систему Hyper NA для микросхем нового поколения

Нидерландский гигант ASML в партнерстве с именитым немецким оптическим концерном Carl Zeiss приступил к созданию литографического оборудования следующей генерации, получившего наименование Hyper NA.

На реализацию столь амбициозного замысла может потребоваться около десятилетия. На данный момент инициатива пребывает на заре своего становления, и руководство еще не вынесло окончательный вердикт относительно коммерческого выпуска аппаратуры.

Предполагается, что комплексы Hyper NA обеспечат превосходство над актуальными системами High-NA EUV в деле миниатюризации полупроводниковых элементов. Перспективная платформа способна оперировать структурами порядка 5 нм, при этом разрешающая способность увеличится более чем на тридцать процентов в сравнении с актуальными образцами техники.

Подобные изыскания критически важны для эволюции полупроводниковой индустрии: разработчики неустанно наращивают вычислительную мощность микрочипов и оптимизируют их энергоэффективность, тогда как литографический барьер по-прежнему выступает главным сдерживающим фактором.

Специалисты Carl Zeiss уже заняты проектированием оптических зеркал с беспрецедентной точностью, требующейся для концепции Hyper NA. Параллельно ASML планирует задействовать ряд проверенных наработок, в частности существующий источник излучения, дабы избежать необходимости разрабатывать осветительный модуль с чистого листа.

Источник: iXBT