В марте этого года бельгийский исследовательский институт IMEC открыл технологическую площадку для освоения производственных норм менее 7 нм. Это один из немногих европейских научных центров, успешно действующих в этой области, и уже демонстрировавший рабочий образец 5-нм чипа.
Теперь и компания ARM объявила о стратегическом партнёрстве с IMEC в рамках программы INSITE по отладке передовых процессов печати чипов с высокой плотностью размещения транзисторов. Программа была запущена в 2009 году и теперь начитывает более 10 участников, заинтересованных в ускоренном освоении сложных полупроводниковых техпроцессов и снижении рисков. Она позволяет на раннем этапе узнать спецификации технологии, принять решения о необходимых изменениях в дизайне и составить план создания конечной продукции.
ARM сконцентрируется на проблемах проектирования схем и архитектуры системного уровня для оптимизации мощности, производительности, площади и стоимости чипов. IMEC также сообщила о начале сотрудничества с Synopsys в области экранирования и внедрения альтернативных металлов для соединений и материалов затворов при 7-нм и более тонких нормах.
Средства проектирования Synopsys позволяют оценить проводимость материалов путём симуляции процессов на ранних этапах разработки, когда данные о пластине ещё не определены, и на стадиях оптимизации и внедрения технологии, что позволяет сократить расходы над печать тестовых пластин.
Оптимизация продвинутых норм техпроцесса — это крайне сложная задача. Перед разработчиками сейчас стоит сложный выбор большого числа потенциальных дизайнов 7-нм микросхем.
Источники:
