Уже в этом году у Китая, в частности у Huawei, могут появиться собственные микрочипы, изготовленные по техпроцессу 5 нм. Если они действительно будут созданы, это станет значительным достижением для инженеров из компании SMIC. Однако это не будет означать, что Китай настиг западных лидеров в данной области. Скорее наоборот: новые документы показывают отставание примерно на 15 лет.
Министерство промышленности и информационных технологий Китая опубликовало документы о созданной в стране машину для литографии. Эта машина принадлежит к классу систем для литографии в глубоком ультрафиолете (DUV), в то время как ASML уже давно использует литографию в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV).
Китайская литографическая установка способна производить полупроводники по техпроцессу 65 нм, используя излучение с длиной волны 193 нм. Это соответствует уровню машин ASML 2009 года. Более того, даже эти старые голландские машины имели лучшие характеристики: их спецификации наложения были менее 2,5 нм, тогда как у китайской разработки — 8 нм.
Таким образом, разрыв между технологиями ASML и китайскими инженерами составляет порядка 15 лет. Следует отметить, что SMIC в настоящее время производит чипы по нормам 7 нм, а не 65 нм, однако для этого используются относительно устаревшие установки той же ASML. Сейчас такие установки могут поставляться в Китай только при наличии соответствующих лицензий.
Источник: iXBT
