Zeiss масштабирует выпуск критически важной оптики для производства 2-нм чипов

Zeiss масштабирует выпуск критически важной оптики для производства 2-нм чипов

Прокомментировать Просмотры: 9

Немецкое подразделение Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology (Zeiss SMT) затеяло масштабную модернизацию и расширение своего индустриального хаба в Оберкохене. Проект подразумевает возведение около 25 000 квадратных метров дополнительных цехов и инфраструктурных объектов. На этих площадях развернется выпуск сложных оптических систем для оборудования ASML — базового элемента, без которого выпуск современных полупроводников физически невозможен.

Zeiss масштабирует выпуск критически важной оптики для производства 2-нм чипов
Изображение сгенерировано ChatGPT

Часть нововведений уже претворяется в жизнь: первые специалисты заняли свои рабочие места в новом корпусе, тогда как остальные здания планируется вводить в эксплуатацию поэтапно.

Подобное масштабирование носит критический характер не только для самой Zeiss, но и для всей глобальной микроэлектронной индустрии. Предприятия компании, расположенные в Оберкохене и Вецларе, удерживают мировую монополию на создание оптических колонн для EUV-сканеров нидерландского гиганта ASML.

Данный факт открыто признает и сама ASML. В официальном годовом отчете подчеркивается, что темпы сборки литографов напрямую упираются в производственные мощности Zeiss SMT. Более того, немецкий производитель выступает монопольным поставщиком важнейших оптических элементов: прецизионных зеркал, линз, коллекторов и систем подсветки. Любой сбой в цепочке поставок моментально парализовал бы конвейер ASML.

Между тем спрос на высокотехнологичное оборудование продолжает стремительно увеличиваться. Ранее руководство ASML проинформировало инвесторов о планах нарастить выпуск Low-NA EUV-сканеров примерно на 30% к 2027 году, доведя показатель до 65 единиц ежегодно, с перспективой аналогичного роста в 2028-м. Параллельно идет технологическая оптимизация: сборку одного сложного комплекса хотят ускорить с нынешних 22 до 15–16 недель.

Особую актуальность расширение Zeiss приобретает на фоне старта серийного выпуска инновационных систем High-NA EUV. Их оптика признана одним из величайших инженерных достижений в человеческой истории. Так, одна только оптическая колонна насчитывает свыше 40 000 компонентов при массе около 12 тонн, а осветительный модуль включает еще 25 000 деталей весом порядка 6 тонн.

На изготовление отдельных зеркальных поверхностей уходят месяцы кропотливой работы. После завершения производства элементы тестируют в гигантских вакуумных установках весом более 150 тонн, где специалисты отслеживают малейшие погрешности геометрии с нанометровой точностью.

Чтобы ускорить реализацию этих масштабных планов, ASML оказывает стратегическому партнеру мощную финансовую поддержку. По итогам 2025 года сумма предоставленных Zeiss SMT займов достигла 1,91 млрд евро, а еще 1,19 млрд евро были переведены в виде авансов под будущие поставки оптики. Дополнительно стороны закрепили долгосрочные намерения новыми соглашениями о финансировании.

Вложения уже приносят ощутимые плоды: по завершении финансового года в сентябре 2025-го выручка Zeiss SMT подскочила на 23% и составила 5,055 млрд евро, сделав это направление флагманским бизнесом всего концерна Zeiss.

Наряду с освоением новых площадей в Оберкохене, компания возводит еще один завод в Вецларе, увеличивает площади чистых зон в Россдорфе и развивает технологический хаб в Южной Корее.

 

Источник: iXBT

Поделиться:

Похожие статьи

Поиск по играм, новостям и статьям…

Введите не менее двух символов

Введите не менее двух символов