Усовершенствованная система проектирования Conventor SEMulator3D теперь работает с оптроникой

Программный комплекс Conventor SEMulator3D изначально разрабатывался в качестве инструмента проектировщика микромеханических систем (MEMS), но с постепенной адаптацией идеи трёхмерных структур в электронике он стал использоваться различными компаниями-разработчиками для проектирования таких элементов, как транзисторы FinFET с объёмным затвором, структур 3D NAND и даже новых головок для жёстких дисков. На сегодняшний день половина пользователей SEMulator3D используют систему именно для проектирования микроэлектроники.

Фрагмент первого оптико-электронного процессора

Фрагмент первого оптико-электронного процессора

Но, как оказалось, на этом возможности данного комплекса не заканчиваются. Компания-разработчик собирается дополнить своё детище библиотеками, позволяющими проектировать оптронные и смешанные оптико-электронные микроструктуры. Оптроника, к сожалению, пока развивается медленнее, чем хотелось бы, но уже появляются первые примеры гибридных чипов и оптических сопроцессоров, а со временем их будет становиться всё больше и разработчикам потребуется соответствующий инструментарий. Благодаря стараниям сотрудников Conventor такой инструментарий уже появился.

Моделирование оптических элементов в SEMulator3D

Моделирование оптических элементов в SEMulator3D

В настоящее время комплекс Conventor SEMulator3D включает в себя библиотеки, позволяющие проектирование структур с размерностью менее 14 нм, трёхмерных структур микроэлектроники, микромеханических структур, магнитных головок и оптических устройств. Он позволяет полностью эмулировать производственный процесс, а следовательно, и отлавливать и искоренять ошибки в дизайне чипа прежде, чем тот будет запущен в настоящее, не виртуальное производство. Такая возможность позволяет разработчикам микроэлектронных устройств сэкономить немало времени и средств. Сейчас Conventor работает над дальнейшим усовершенствованием системы SEMulator3D, что позволит использовать её для анализа различных сложных случаев и даже оценки выгодности применения фотолитографии на основе экстремального ультрафиолета (EUV).

Источник:

Читайте также