Intel не выказывает заинтересованности в EUV-литографии
Мы не раз отмечали, что 2017 год стал годом сдвига процессов в подготовке перехода на полупроводниковую литографию с использованием проекции в крайнем или жёстком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). Нидерландская компания ASML оформила заказы на 21 установку NXE:3400B — это первые сканеры, которые получили статус готовых к коммерческому производству. Типичный современный литографический сканер компании ASML для выпуска...







