Россия разработала литограф для выпуска 150-нанометровых чипов

Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) представил передовую установку электронно-лучевой литографии с разрешением 150 нм. На текущий момент два прототипа проходят цикл всесторонних испытаний, рассчитанный на четыре месяца.

Главное преимущество системы заключается в возможности безмасковой записи: рисунок топологии микросхем переносится непосредственно на подложку, что также позволяет создавать сами фотошаблоны. Подобное решение критически важно для научно-исследовательских работ (НИОКР), отладки прототипов и выпуска малосерийной специализированной микроэлектроники, где создание дорогостоящей оснастки для каждого нового проекта экономически нецелесообразно.

Хотя по показателям производительности электронно-лучевая литография уступает традиционным методам и не предназначена для конвейерного выпуска чипов, она остается незаменимым инструментом для высокотехнологичного прототипирования и создания уникальных электронных компонентов, в том числе для нужд аэрокосмической сферы.

Напомним, что в арсенале ЗНТЦ уже имеется разработанный в России фотолитограф с разрешением 350 нм, а специалисты центра продолжают совершенствовать технологии, осваивая нормы 130 нм.

Ранее стало известно о выделении почти миллиарда рублей на разработку современного оборудования для производства микроэлектроники.

Источник: iXBT