Россия разработает программное обеспечение для проектирования 90-нм чипов

Министерство промышленности и торговли инициировало конкурс на создание профильного программного обеспечения, призванного стать фундаментом отечественных систем автоматизированного проектирования (САПР) для нужд фотолитографии. Целевой задачей является разработка софта для работы с топологиями от 90 нм и выше — сегментом, который остается критически важным для выпуска микроэлектронных компонентов по зрелым технологическим нормам.

Бюджет проекта составляет 943 млн рублей. Согласно условиям тендера, размещенного 28 апреля 2026 года, контракт должен быть реализован к ноябрю 2028 года. Будущий программный комплекс обязан включать функционал для импорта данных, визуализации топологий, эскизирования и подготовки финальных комплектов документации для фотошаблонов. Важным требованием является обеспечение нативной поддержки белорусских лазерных генераторов фотошаблонов.

Инициатива является частью системной стратегии по обеспечению технологического суверенитета в микроэлектронике. После ухода с российского рынка глобальных игроков, таких как Cadence и Synopsys, вопрос замещения профильного инженерного ПО стал первостепенным. Еще в 2024 году ведомство зафиксировало «дорожную карту» развития отечественных САПР, рассчитанную до 2030 года, с совокупным объемом финансирования НИОКР в размере 54,6 млрд рублей.

В долгосрочной перспективе к 2030 году планируется расширение экосистемы до 100 различных программных платформ и кратное увеличение рыночного сегмента отечественных САПР. Кроме того, стратегический план предусматривает переход к разработке инструментов для освоения более прогрессивных проектных норм — 28 нм.

Источник: iXBT