Россия планирует к 2026 году создать литограф «Орел-7» для выпуска чипов по техпроцессу менее 28 нм

Согласно сведениям ТАСС, на площадке строящегося в Новосибирской области синхротрона СКИФ (Сибирский кольцевой источник фотонов) запланировано создание уникальной для отечественной промышленности установки — опытного рентгеновского литографа «Орел-7». Данное оборудование призвано преодолеть современный технологический барьер оптической печати в 28 нанометров.

Традиционные методы изготовления микросхем ограничены физическими свойствами световой волны. В свою очередь, использование коротковолнового рентгеновского излучения откроет возможности для формирования сверхминиатюрных транзисторных структур с беспрецедентно высоким разрешением.

Синхротрон СКИФ, ввод в эксплуатацию которого намечен на лето 2026 года, станет мощнейшим в мире источником излучения четвертого поколения. Его энергия ляжет в основу работы специализированной станции рентгеновской литографии. Для ускорения реализации проекта ученые Центра ИИ Новосибирского государственного университета (НГУ) уже занимаются проектированием «цифровых двойников» системы, что позволяет моделировать и отлаживать физику сложных процессов в виртуальном пространстве.

Источник: iXBT