Минпромторг инициировал реализацию двух значимых проектов, направив суммарно около 2 млрд рублей на создание отечественных материалов для электронно-лучевой и взрывной литографии. Эти химические компоненты играют ключевую роль в высокотехнологичном производстве микроэлектроники и СВЧ-устройств.
_large.jpg)
Бюджет первого тендера, оцениваемый в 1,017 млрд рублей, направлен на освоение технологий электронно-лучевой литографии, тогда как второй проект с финансированием 889,5 млн рублей сфокусирован на материалах для взрывной литографии. Все опытно-конструкторские работы должны быть успешно завершены к ноябрю 2029 года.
Цель инициативы «СВЧ Резист-1» — разработка линейки из 12 электронно-лучевых резистов, призванных заменить зарубежные аналоги от таких индустриальных гигантов, как немецкие Allresist и Microresist, японская ZEON и американская MicroChem. Параллельно проект «СВЧ Резист-2» нацелен на создание семи типов составов, способных стать полноценной альтернативой продукции серий LOR и PMGI из США.
Согласно отчетной документации, текущая зависимость отечественной промышленности и научного сектора от поставок из-за рубежа критична, поскольку собственное серийное производство этих наукоемких материалов в стране до сих пор отсутствовало.
Электронно-лучевая литография необходима для формирования прецизионных структур с нанометровым разрешением, что является фундаментом при проектировании современных чипов и фотошаблонов. В свою очередь, взрывная литография незаменима для прецизионного осаждения металлических слоев, что критически важно при выпуске силовых компонентов и СВЧ-электроники.
Данные тендеры являются логичным продолжением государственного курса на технологический суверенитет в сфере микроэлектроники. Ранее Минпромторг уже инвестировал средства в создание отечественной базы фоторезистов, специализированных газов и химикатов, необходимых для производства полупроводников и интегральных микросхем.
Источник: iXBT

