Китайский технологический прорыв: Prinano ввела в строй первый литограф наноимпринтинга для производства чипов

Китайская компания Prinano (PuLin Technology) передала своему первому заказчику внутри Китая полностью разработанный самостоятельно наноимпринтный литограф PL-SR. Аппарат рассчитан на промышленное производство полупроводниковых кристаллов. Таким образом, Prinano стала второй после Canon фирмой, разместившей нанопечатный литограф на площадке клиента.

PL-SR обеспечивает ширину линий менее 10 нм, тогда как Canon FPA-1200NZ2C формирует узоры на пластинах с минимальным размером линии в 14 нм. В теории PL-SR способен выпускать кристаллы 5-нанометрового класса, однако в технической документации подчёркивается, что это не означает готовности оборудования к созданию современной 5-нм логики.

Нанопечатная литография отличается рядом преимуществ: ей не нужен источник экстримального ультрафиолета (EUV), применяемый в коммерческих EUV-сканерах, что снижает энергопотребление и удешевляет оборудование. В обмен на это она уступает оптической литографии в скорости и универсальности, не подходя для сложных логических технологий с многоступенчатыми масками. Система Prinano лучше всего зарекомендовала себя при выпуске флэш-памяти, но вряд ли годится для производства CPU и GPU.

Устройство Prinano переносит наноузоры на 300-мм пластины методом прижатия жёсткой кварцевой матрицы с выгравированными схемами к тонкому слою резиста, нанесённому струйной печатью. Инжекционный блок динамически регулирует объём капель, обеспечивая остаточный слой менее 10 нм с отклонениями ниже 2 нм.

Источник: iXBT