Китайские гиганты памяти CXMT и YMTC забронировали литографическое оборудование ASML на три года вперёд

Ведущие игроки китайского рынка памяти, компании CXMT и YMTC, заблаговременно сформировали внушительный резерв DUV-литографов от нидерландского концерна ASML. По информации Financialites, накопленного арсенала должно хватить примерно на трехлетний горизонт масштабного расширения производственных линий.

Санкционные барьеры закрыли для КНР доступ к передовым EUV-сканерам ASML, однако поставки менее совершенных DUV-установок пока остаются легальными. Данные комплексы традиционно задействуются в зрелых технологических процессах, а методика многократного прохода позволяет адаптировать их для выпуска более сложных полупроводниковых изделий.

Стратегический запас критически важен для CXMT (выпускающей DRAM) и YMTC (специализирующейся на NAND) в свете их амбициозных планов по увеличению объемов выпуска. Сформированный буфер гарантирует бесперебойное масштабирование инфраструктуры в среднесрочной перспективе, даже если санкционная петля продолжит затягиваться.

Параллельно Пекин активно стимулирует импортозамещение в литографическом сегменте. Так, шанхайская компания Yuliangsheng планирует собрать до дюжины DUV-сканеров к финалу 2026 года. Аффилированная с ней структура Shanghai Aishengna Electronic Technology Group ранее анонсировала выпуск пяти аппаратов к тому же сроку с последующим наращиванием темпов до 20 единиц к концу 2027 года (о тесной связи предприятий свидетельствует их общий юридический адрес).

Тем не менее, отечественные аналоги пока не могут похвастаться высоким доверием со стороны локальных гигантов, предпочитающих проверенную продукцию ASML. Именно поэтому CXMT и YMTC сделали ставку на импортные поставки, решив не рисковать своими производственными графиками ради сырых локальных решений.

Если в сегменте DUV китайская индустрия демонстрирует впечатляющий прогресс и дышит в спину зарубежным конкурентам, то в сфере EUV-литографии технологическая пропасть по-прежнему огромна. По экспертным оценкам финансового конгломерата UBS, отставание местных разработок от флагманских систем ASML может достигать целого десятилетия.

Дефицит оборудования глубокого ультрафиолета вынуждает китайские полупроводниковые предприятия проявлять изобретательность. Инженеры активно внедряют методики многократной экспозиции на DUV-технике, осваивают трехмерную архитектуру и иные прорывные подходы, позволяющие наращивать плотность транзисторных структур в обход ограничений EUV.

Источник: iXBT