Китай признал невозможность создания аналога передовых литографов ASML из-за слабости и раздробленности отрасли

Руководители ведущих технологических корпораций КНР, включая SMIC, YMTC, Naura и Empyrean, выступили с программным материалом в издании Science and Technology Review. В этой публикации они открыто констатировали системную уязвимость национального сектора микроэлектроники, охарактеризовав его как «поверхностный и разобщенный», и призвали к консолидации ресурсов для формирования независимого технологического фундамента.

Авторы акцентировали внимание на критических направлениях, в которых санкционная политика США наиболее ощутимо сдерживает прогресс Китая. В этот список вошли системы автоматизированного проектирования (EDA), производство кремниевых подложек и высокоточное литографическое оборудование.

Топ-менеджеры индустрии отметили, что государственные преференции зачастую распыляются среди множества мелких игроков. Для появления «китайского аналога ASML» к завершению 15-й пятилетки (2030 год) потребуется жесткая централизация усилий и создание механизмов поглощения и слияния компаний под эгидой государства.

Несмотря на колоссальные инвестиции в разработку литографических установок нового поколения и определенный прогресс в выпуске отдельных узлов, Пекину пока не удалось создать полноценно функционирующую систему для работы с экстремальным ультрафиолетом (EUV).

Источник: iXBT