Китай представил литографические установки нового поколения собственной разработки

Компания Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE) показала новое поколение установок сухой литографии на 9-й Китайской международной выставке импортных товаров.

Эта разработка стала очередным шагом в реализации китайской стратегии импортозамещения в производстве полупроводникового оборудования. Платформа основана на собственной унифицированной архитектуре и предназначена для работы с двумя технологическими процессами: I-line и KrF. По заявлению SMEE, компания самостоятельно разрабатывает и поставляет ключевые компоненты, в том числе высокоточные оптические системы, механизмы позиционирования пластин и фотошаблонов, а также автоматизированные системы транспортировки материалов.

В компании утверждают, что установки по качеству не уступают ведущим зарубежным аналогам, а точность совмещения слоев и скорость работы приближаются к мировым стандартам. Оборудование стабильно функционирует при разных технологических процессах и рассчитано на длительную работу в производственных линиях. SMEE также сообщает, что ее установки уже задействованы на китайских предприятиях, выпускающих логические микросхемы и чипы памяти.

Согласно данным производителя, на оборудовании обработано более 10 млн кремниевых пластин, а показатель эффективной производительности превышает 92%.

Компания SMEE основана в 2002 году. Она называет себя единственным китайским производителем, который выпускает установки сухой литографии серийно и поставляет их заказчикам.

Источник: iXBT