Huawei испытывает передовой EUV-литограф, заменяющий санкционное оборудование: шаг к независимому производству чипов

Китай предпринимает значительный прогресс в развитии технологий экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии, которые ранее являлись исключительной областью деятельности нидерландской компании ASML. Новый комплекс для литографии, находящийся на стадии тестирования на производственном объекте Huawei в Дунгуане, задействует передовую технологию плазмы, индуцированной лазером (LDP). Пробный выпуск оборудования запланирован на третий квартал 2025 года, с серийным производством к 2026 году. Если проект увенчается успехом, это может изменить расстановку сил на рынке, лишив ASML технического превосходства в области передовой литографии.

В отличие от методики ASML, использующей плазму на основе лазерно-индуцированных процессов (LPP), китайская разработка LDP создает EUV-излучение с длиной волны 13,5 нм. Это достигается путем испарения олова между электродами с последующей трансформацией его в плазму посредством высоковольтного разряда. Происходящие внутри плазмы взаимодействия электронов и ионов производят нужную длину волны. Этот подход несет с собой преимущества в виде упрощенной конструкции, более компактных размеров, улучшенной энергоэффективности и потенциального снижения стоимости производства по сравнению с технологией ASML, задействующей мощные лазеры и сложные системы управления.

Американские санкции, ограничивающие экспорт EUV-оборудования в Китай, ранее оказывали негативное влияние на развитие национальной полупроводниковой отрасли. Китайским производителям приходилось работать с системами глубокой ультрафиолетовой (DUV) литографии, использующими длины волн 248 нм и 193 нм. Технология Huawei с длиной волны 13,5 нм может стать значительным прорывом в этой сфере.

Но перед новой технологией стоят серьезные испытания: пока остаётся открытым вопрос, сможет ли она предоставить нужные разрешение, стабильность и совместимость с существующими производственными процессами. Выведение на рынок EUV-литографии от Huawei может стать вызовом для доминирующего положения ASML, чьи современные системы с высокой числовой апертурой (High-NA) стоят около 380 миллионов долларов. Несмотря на высокие затраты на разработку, собственная EUV-литография станет для Китая символом суверенитета в производстве чипов. Крупные производители, такие как SMIC, уже сотрудничают с Huawei для внедрения новых сканеров в свои процессы, однако создание полностью автономной производственной цепочки требует времени.

Источник: iXBT