В обсуждениях лидеров полупроводниковой индустрии, внедряющих передовые литографические нормы, традиционно фигурируют TSMC, Intel и Samsung. Однако японский амбициозный проект Rapidus намерен разрушить этот статус-кво, приступив к освоению 2-нанометрового техпроцесса уже в ближайшее время.
Согласно стратегическому плану, поданному в Министерство экономики, торговли и промышленности Японии, государственная компания Rapidus рассчитывает запустить опытное производство микросхем по стандарту 2 нм во второй половине 2027 года. Переход к полномасштабному коммерческому выпуску продукции намечен на 2028 год.
Производственные мощности будут развернуты на строящемся заводе в городе Титосэ на острове Хоккайдо. Площадка спроектирована как комплекс полного цикла, объединяющий этапы обработки кремниевых подложек (Front-end) и финальные стадии — нарезку кристаллов и их упаковку (Back-end). К 2028 году предприятие планирует выйти на проектную мощность в 25 000 пластин ежемесячно.
Технические спецификации нового техпроцесса пока не раскрываются в полной мере. Известно, что технология получила обозначение 2HP, а плотность размещения логических элементов составит 237,31 млн транзисторов на мм², что сопоставимо с характеристиками узла N2 от тайваньской TSMC.
Успешная реализация этой дорожной карты будет означать появление на мировом рынке нового весомого игрока, способного составить реальную конкуренцию признанным гигантам в производстве сложнейших чипов.
Источник: iXBT
