Норвежский стартап Lace Lithography, пользующийся поддержкой корпорации Microsoft, успешно привлек 40 млн долларов в ходе очередного инвестиционного раунда, сообщает Reuters. Компания занимается созданием принципиально нового оборудования для производства микросхем, где вместо традиционного светового излучения для формирования рисунка на кремниевых пластинах применяется поток атомов гелия.
Согласно заявлениям разработчиков, данная технология позволяет создавать полупроводниковые структуры, размеры которых в десять раз меньше пределов возможностей современных литографических систем. Ширина атомного пучка составляет всего 0,1 нм, в то время как передовые EUV-сканеры от ASML используют длину волны 13,5 нм.
Фото: Lace Lithography
Хотя проект все еще находится на стадии разработки, компания рассчитывает запустить первый прототип на пилотной производственной линии к 2029 году.
Главное преимущество такого подхода заключается в том, что атомы, в отличие от фотонов, на которых базируются установки ASML, не ограничены дифракционным пределом. Это открывает возможности для уменьшения транзисторов и других элементов микроэлектроники на порядок.
Стартап классифицирует свои системы как BEUV (Beyond-EUV — «за пределами экстремального ультрафиолета»). Предприятие было основано в 2023 году физиком Бодил Холст.
Источник: iXBT
