Китайский «Манхэттенский проект»: бывшие инженеры ASML создали в КНР секретный передовой EUV-литограф

Инженерный корпус КНР совершил фундаментальный рывок в области полупроводниковых технологий. По сведениям агентства Reuters, исследовательский центр в Шэньчжэне представил прототип отечественного литографического сканера, работающего в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). К созданию установки, детали которой долгое время хранились в строгом секрете, были привлечены в том числе бывшие сотрудники нидерландского гиганта ASML.

Данная разработка стала ключевым элементом национальной стратегии по развитию микроэлектроники. По сообщениям государственных медиа, проект курирует лично Дин Сюэсян — высокопоставленный соратник Си Цзиньпина и глава Центральной комиссии КПК по науке и технологиям. Роль главного технологического интегратора отведена корпорации Huawei, которая координирует работу широкой сети научно-исследовательских институтов и профильных компаний, объединяющих усилия тысяч ведущих специалистов.

Инсайдеры сравнивают масштаб и значимость этих работ с китайским аналогом «Манхэттенского проекта». Основной приоритет Пекина — достижение абсолютного суверенитета в производстве передовых кристаллов. Конечная цель заключается в формировании замкнутого цикла выпуска микрочипов на базе исключительно внутренних разработок, что позволит полностью исключить влияние США на цепочки поставок.

Несмотря на достигнутый успех, представленный образец EUV-системы пока не готов к интеграции в серийное производство. Эксперты полагают, что установка выйдет на полную функциональную мощность в период с 2028 по 2030 год. К тому времени глобальные лидеры рынка, такие как ASML, TSMC и Samsung, вероятно, уже перейдут на использование технологий следующего поколения — High-NA EUV. Кроме того, перед Китаем стоит сложнейшая задача по полной локализации выпуска всех компонентов для самой машины.

До настоящего времени китайский полупроводниковый сектор был вынужден опираться на DUV-системы предыдущих поколений, доступные для легального импорта. Тем не менее, компания SMIC сумела извлечь максимум из имеющегося оборудования, наладив выпуск 5-нанометровых процессоров (включая Kirin 9030) и изучая возможности перехода к нормам 2 нм. Переход к массовой эксплуатации собственных EUV-литографов станет для КНР настоящей технологической революцией.

 

Источник: iXBT