Графеновые мемристоры ускоряют развитие следующего поколения искусственного интеллекта

Учёные из Лондонского университета королевы Марии совместно с компанией Paragraf Limited совершили значительный прорыв в развитии мемристоров на базе графена.

Это достижение, представленное в издании ACS Advanced Electronic Materials, знаменует важный этап в масштабном производстве графеновых мемристоров, необходимых для энергонезависимой памяти и искусственных нейронных сетей.

Графеновые мемристоры ускоряют развитие следующего поколения искусственного интеллекта
Источник: DALL-E

Мемристоры, устройства, способные выполнять аналоговые вычисления, сохранять данные без источников энергии и имитировать синаптические функции человеческого мозга, рассматриваются как потенциально революционные в сфере вычислительной техники. Использование графена, обладающего наивысшей подвижностью электронов среди известных материалов, может значительно улучшить данные устройства. Однако прежде возникали сложности в его масштабировании и интеграции в электронику.

«Графеновые электроды предоставляют очевидные преимущества в технологии мемристоров. Они обеспечивают не только повышенную долговечность, но и захватывающие новые возможности, такие как светочувствительные синапсы и память, настраиваемая через оптические сигналы», — утверждает доктор Чжичао Вэн, научный сотрудник Школы физико-химических наук в Королевской Мэри.

Одной из ключевых задач при создании мемристоров является их деградация, которую графен способен препятствовать. Блокируя химические воздействия, разрушающие традиционные электроды, графен существенно увеличивает срок службы и надёжность этих устройств. Его способность пропускать 98% света способствует новаторским разработкам в области искусственного интеллекта и оптоэлектроники.

Прорыв в разработке графеновых мемристоров открывает путь к следующему поколению искусственного интеллекта
Источник: ACS Applied Electronic Materials (2024). DOI: 10.1021/acsaelm.4c01208

Данное исследование является важным шагом в сторону крупномасштабного производства графеновой электроники. Ранее создание высококачественного графена, подходящего для полупроводниковой индустрии, было значимой проблемой. Тем не менее, запатентованный Paragraf метод металл-органического химического осаждения из паровой фазы (MOCVD) позволяет выращивать графеновый монолист непосредственно на целевых подложках.

Эта масштабируемая технология уже используется в коммерческих устройствах, таких как графеновые датчики Холла и полевые транзисторы (GFET). «Потенциал использования графена в новых вычислительных устройствах, которые объединяют логику и память, открывает новые горизонты для решения проблемы энергопотребления при обучении больших языковых моделей в искусственном интеллекте», — комментирует Джон Тингей, технический директор Paragraf.

Команда применила многоэтапный процесс фотолитографии для создания и интеграции графеновых электродов в мемристоры, что позволяет достигать воспроизводимых результатов и открывает путь к массовому производству. «Наше исследование не только доказало теоретическое обоснование, но и подтвердило пригодность графена для усовершенствования характеристик мемристоров по сравнению с другими материалами», — заявляет профессор Оливер Фенвик, специалист по электронным материалам в Школе инженерии и материаловедения Королевы Марии.

 

Источник: iXBT

Читайте также