<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><rss version="2.0"
	xmlns:media="http://search.yahoo.com/mrss/"
	xmlns:content="http://purl.org/rss/1.0/modules/content/"
	xmlns:wfw="http://wellformedweb.org/CommentAPI/"
	xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/"
	xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom"
	xmlns:sy="http://purl.org/rss/1.0/modules/syndication/"
	xmlns:slash="http://purl.org/rss/1.0/modules/slash/"
	>

<channel>
	<title>литография: новости, трейлеры и обзоры | SE7EN.ws</title>
	<atom:link href="https://se7en.ws/tag/litografiya/feed/" rel="self" type="application/rss+xml" />
	<link>https://se7en.ws</link>
	<description>Медиа-портал - компьютерные игры, фильмы, музыка, сообщества, игровые события.</description>
	<lastBuildDate>Wed, 28 Oct 2020 07:50:30 +0000</lastBuildDate>
	<language>ru-RU</language>
	<sy:updatePeriod>
	hourly	</sy:updatePeriod>
	<sy:updateFrequency>
	1	</sy:updateFrequency>
	

<image>
	<url>https://se7en.ws/wp-content/uploads/2024/07/se7en-icon-150x150.png</url>
	<title>литография: новости, трейлеры и обзоры | SE7EN.ws</title>
	<link>https://se7en.ws</link>
	<width>32</width>
	<height>32</height>
</image> 
	<item>
		<title>Нанопечатная литография: крылья цикад и лак для ногтей</title>
		<link>https://se7en.ws/nanopechatnaya-litografiya-krylya-cikad-i-lak-dlya-nogtey/</link>
					<comments>https://se7en.ws/nanopechatnaya-litografiya-krylya-cikad-i-lak-dlya-nogtey/#respond</comments>
		
		<dc:creator><![CDATA[news]]></dc:creator>
		<pubDate>Wed, 28 Oct 2020 07:50:30 +0000</pubDate>
				<category><![CDATA[Научно-популярное]]></category>
		<category><![CDATA[биотехнологии]]></category>
		<category><![CDATA[гидрофильность]]></category>
		<category><![CDATA[гидрофобность]]></category>
		<category><![CDATA[крылья]]></category>
		<category><![CDATA[литография]]></category>
		<category><![CDATA[наноструктуры]]></category>
		<category><![CDATA[нанотехнологии]]></category>
		<category><![CDATA[насекомые]]></category>
		<category><![CDATA[поверхности]]></category>
		<category><![CDATA[репликация]]></category>
		<category><![CDATA[цикады]]></category>
		<guid isPermaLink="false">https://se7en.ws/nanopechatnaya-litografiya-krylya-cikad-i-lak-dlya-nogtey/</guid>

					<description><![CDATA[<p>С точки зрения взаимодействия с жидкостями, грубо говоря, есть два типа материалов: гидрофильные и гидрофобные. Губки для мытья посуды, например, относятся к первой группе, так как отлично впитывают жидкости. Примером вторых могут быть листья многих растений, ибо они отталкивают жидкости. На первый взгляд все достаточно просто, однако более внимательное рассмотрение гидрофобных и гидрофильных материалов указывает...</p>
<p>The post <a href="https://se7en.ws/nanopechatnaya-litografiya-krylya-cikad-i-lak-dlya-nogtey/">Нанопечатная литография: крылья цикад и лак для ногтей</a> first appeared on <a href="https://se7en.ws">SE7EN</a>.</p>]]></description>
		
					<wfw:commentRss>https://se7en.ws/nanopechatnaya-litografiya-krylya-cikad-i-lak-dlya-nogtey/feed/</wfw:commentRss>
			<slash:comments>0</slash:comments>
		
		
		<media:content url="https://habrastorage.org/webt/m1/nx/ok/m1nxokoif91ie-5toak5mgxb-zm.jpeg" medium="image"></media:content>
            	</item>
		<item>
		<title>Производство с нормами 5 нм и сканерами EUV может быть отложено</title>
		<link>https://se7en.ws/proizvodstvo-s-normami-5-nm-i-skanerami-euv-mozhet-byt-otlozheno/</link>
					<comments>https://se7en.ws/proizvodstvo-s-normami-5-nm-i-skanerami-euv-mozhet-byt-otlozheno/#respond</comments>
		
		<dc:creator><![CDATA[news]]></dc:creator>
		<pubDate>Thu, 01 Mar 2018 15:06:57 +0000</pubDate>
				<category><![CDATA[Техника и IT]]></category>
		<category><![CDATA[5-нм]]></category>
		<category><![CDATA[7 нм]]></category>
		<category><![CDATA[euv]]></category>
		<category><![CDATA[samsung electronics]]></category>
		<category><![CDATA[литография]]></category>
		<category><![CDATA[производство микросхем]]></category>
		<guid isPermaLink="false">https://se7en.ws/proizvodstvo-s-normami-5-nm-i-skanerami-euv-mozhet-byt-otlozheno/</guid>

					<description><![CDATA[<p>В принципе, началу производства 7-нм чипов с использованием полупроводниковой литографии в крайнем ультрафиолетовом диапазоне уже ничего не мешает. Как уже не раз сообщалось, компания Samsung приступит к выпуску 7-нм продукции во второй половине текущего года. Она первой начнёт использовать сканеры диапазона EUV с длиной волны 13,5 нм. Компании GlobalFoundries и TSMC присоединятся к ней в...</p>
<p>The post <a href="https://se7en.ws/proizvodstvo-s-normami-5-nm-i-skanerami-euv-mozhet-byt-otlozheno/">Производство с нормами 5 нм и сканерами EUV может быть отложено</a> first appeared on <a href="https://se7en.ws">SE7EN</a>.</p>]]></description>
		
					<wfw:commentRss>https://se7en.ws/proizvodstvo-s-normami-5-nm-i-skanerami-euv-mozhet-byt-otlozheno/feed/</wfw:commentRss>
			<slash:comments>0</slash:comments>
		
		
		<media:content url="https://3dnews.ru/assets/external/illustrations/2018/02/28/966354/asml3300.jpg" medium="image"></media:content>
            	</item>
		<item>
		<title>ASML отмечает высокий спрос на сканеры EUV</title>
		<link>https://se7en.ws/asml-otmechaet-vysokiy-spros-na-skanery-euv/</link>
					<comments>https://se7en.ws/asml-otmechaet-vysokiy-spros-na-skanery-euv/#respond</comments>
		
		<dc:creator><![CDATA[news]]></dc:creator>
		<pubDate>Fri, 19 Jan 2018 06:24:04 +0000</pubDate>
				<category><![CDATA[Техника и IT]]></category>
		<category><![CDATA[7 нм]]></category>
		<category><![CDATA[asml]]></category>
		<category><![CDATA[euv]]></category>
		<category><![CDATA[литография]]></category>
		<category><![CDATA[производство микросхем]]></category>
		<guid isPermaLink="false">https://se7en.ws/asml-otmechaet-vysokiy-spros-na-skanery-euv/</guid>

					<description><![CDATA[<p>Компания ASML сообщила о росте интереса производителей полупроводников к сканерам диапазона EUV. Массовые сканеры диапазона DUV с длиной волны 193 нм тоже пользовались повышенным спросом. За 2017 год компания поставила 161 сканер DUV, что на 21 % больше поставок 2016 года. Рост продаж сканеров в Китае также вырос примерно на 20 %. В 2018 году...</p>
<p>The post <a href="https://se7en.ws/asml-otmechaet-vysokiy-spros-na-skanery-euv/">ASML отмечает высокий спрос на сканеры EUV</a> first appeared on <a href="https://se7en.ws">SE7EN</a>.</p>]]></description>
		
					<wfw:commentRss>https://se7en.ws/asml-otmechaet-vysokiy-spros-na-skanery-euv/feed/</wfw:commentRss>
			<slash:comments>0</slash:comments>
		
		
		<media:content url="https://3dnews.ru/assets/external/illustrations/2018/01/18/964298/asml_euv.jpg" medium="image"></media:content>
            	</item>
		<item>
		<title>Представлен образец ReRAM с высокой устойчивостью к износу</title>
		<link>https://se7en.ws/predstavlen-obrazec-reram-s-vysokoy-ustoychivostyu-k-iznosu/</link>
					<comments>https://se7en.ws/predstavlen-obrazec-reram-s-vysokoy-ustoychivostyu-k-iznosu/#respond</comments>
		
		<dc:creator><![CDATA[news]]></dc:creator>
		<pubDate>Fri, 24 Nov 2017 10:00:19 +0000</pubDate>
				<category><![CDATA[Техника и IT]]></category>
		<category><![CDATA[reram]]></category>
		<category><![CDATA[литография]]></category>
		<category><![CDATA[производство микросхем]]></category>
		<category><![CDATA[разработчики]]></category>
		<category><![CDATA[флеш-память]]></category>
		<guid isPermaLink="false">https://se7en.ws/predstavlen-obrazec-reram-s-vysokoy-ustoychivostyu-k-iznosu/</guid>

					<description><![CDATA[<p>В мае прошлого года мы рассказывали об израильском стартапе Weebit Nano, который за два года из никому не известной группы инженеров превратился в компанию с акциями, котирующимися на Австралийской бирже. Весной 2016 года произошло так называемое обратное поглощение, когда австралийская компания Radar Iron поглотила Weebit Nano и прекратила своё существование. Тогда же (летом 2016 года)...</p>
<p>The post <a href="https://se7en.ws/predstavlen-obrazec-reram-s-vysokoy-ustoychivostyu-k-iznosu/">Представлен образец ReRAM с высокой устойчивостью к износу</a> first appeared on <a href="https://se7en.ws">SE7EN</a>.</p>]]></description>
		
					<wfw:commentRss>https://se7en.ws/predstavlen-obrazec-reram-s-vysokoy-ustoychivostyu-k-iznosu/feed/</wfw:commentRss>
			<slash:comments>0</slash:comments>
		
		
		<media:content url="https://3dnews.ru/assets/external/illustrations/2017/11/24/961975/idf2012-day1-keynote-david-.jpg" medium="image"></media:content>
            	</item>
		<item>
		<title>Intel не выказывает заинтересованности в EUV-литографии</title>
		<link>https://se7en.ws/intel-ne-vykazyvaet-zainteresovannosti-v-euv-litografii/</link>
					<comments>https://se7en.ws/intel-ne-vykazyvaet-zainteresovannosti-v-euv-litografii/#respond</comments>
		
		<dc:creator><![CDATA[news]]></dc:creator>
		<pubDate>Wed, 11 Oct 2017 06:42:05 +0000</pubDate>
				<category><![CDATA[Техника и IT]]></category>
		<category><![CDATA[euv]]></category>
		<category><![CDATA[intel]]></category>
		<category><![CDATA[контрактное производство]]></category>
		<category><![CDATA[литография]]></category>
		<category><![CDATA[производство микросхем]]></category>
		<guid isPermaLink="false">https://se7en.ws/intel-ne-vykazyvaet-zainteresovannosti-v-euv-litografii/</guid>

					<description><![CDATA[<p>Мы не раз отмечали, что 2017 год стал годом сдвига процессов в подготовке перехода на полупроводниковую литографию с использованием проекции в крайнем или жёстком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). Нидерландская компания ASML оформила заказы на 21 установку NXE:3400B &#8212; это первые сканеры, которые получили статус готовых к коммерческому производству. Типичный современный литографический сканер компании ASML для выпуска...</p>
<p>The post <a href="https://se7en.ws/intel-ne-vykazyvaet-zainteresovannosti-v-euv-litografii/">Intel не выказывает заинтересованности в EUV-литографии</a> first appeared on <a href="https://se7en.ws">SE7EN</a>.</p>]]></description>
		
					<wfw:commentRss>https://se7en.ws/intel-ne-vykazyvaet-zainteresovannosti-v-euv-litografii/feed/</wfw:commentRss>
			<slash:comments>0</slash:comments>
		
		
		<media:content url="https://3dnews.ru/assets/external/illustrations/2017/10/10/959756/asml_skan.jpg" medium="image"></media:content>
            	</item>
		<item>
		<title>В Китае первые EUV-сканеры ASML будут установлены в 2019 году</title>
		<link>https://se7en.ws/v-kitae-pervye-euv-skanery-asml-budut-ustanovleny-v-2019-godu/</link>
					<comments>https://se7en.ws/v-kitae-pervye-euv-skanery-asml-budut-ustanovleny-v-2019-godu/#respond</comments>
		
		<dc:creator><![CDATA[news]]></dc:creator>
		<pubDate>Wed, 04 Oct 2017 07:04:28 +0000</pubDate>
				<category><![CDATA[Техника и IT]]></category>
		<category><![CDATA[7 нм]]></category>
		<category><![CDATA[asml]]></category>
		<category><![CDATA[китай]]></category>
		<category><![CDATA[литография]]></category>
		<category><![CDATA[производство микросхем]]></category>
		<guid isPermaLink="false">https://se7en.ws/v-kitae-pervye-euv-skanery-asml-budut-ustanovleny-v-2019-godu/</guid>

					<description><![CDATA[<p>В текущем году так называемая EUV-литография &#8212; система проекции для производства полупроводников с использованием излучения с длиной волны 13,5 нм &#8212; достигла коммерческой зрелости. Производством литографических EUV-сканеров занимается нидерландская компания ASML. В настоящий момент ASML поставила клиентам 14 опытных EUV-сканеров и располагает заказами на изготовление 21 новой установки. Внешний вид типичного современного литографического сканера компании...</p>
<p>The post <a href="https://se7en.ws/v-kitae-pervye-euv-skanery-asml-budut-ustanovleny-v-2019-godu/">В Китае первые EUV-сканеры ASML будут установлены в 2019 году</a> first appeared on <a href="https://se7en.ws">SE7EN</a>.</p>]]></description>
		
					<wfw:commentRss>https://se7en.ws/v-kitae-pervye-euv-skanery-asml-budut-ustanovleny-v-2019-godu/feed/</wfw:commentRss>
			<slash:comments>0</slash:comments>
		
		
		<media:content url="https://3dnews.ru/assets/external/illustrations/2017/10/03/959384/asml_skan.jpg" medium="image"></media:content>
            	</item>
		<item>
		<title>GlobalFoundries представила пакет инструментов для проектирования 7-нм чипов</title>
		<link>https://se7en.ws/globalfoundries-predstavila-paket-instrumentov-dlya-proektirovaniya-7-nm-chipov/</link>
					<comments>https://se7en.ws/globalfoundries-predstavila-paket-instrumentov-dlya-proektirovaniya-7-nm-chipov/#respond</comments>
		
		<dc:creator><![CDATA[news]]></dc:creator>
		<pubDate>Thu, 15 Jun 2017 07:11:39 +0000</pubDate>
				<category><![CDATA[Техника и IT]]></category>
		<category><![CDATA[7 нм]]></category>
		<category><![CDATA[euv]]></category>
		<category><![CDATA[GlobalFoundries]]></category>
		<category><![CDATA[литография]]></category>
		<category><![CDATA[производство микросхем]]></category>
		<guid isPermaLink="false">https://se7en.ws/globalfoundries-predstavila-paket-instrumentov-dlya-proektirovaniya-7-nm-chipov/</guid>

					<description><![CDATA[<p>Компания GlobalFoundries выпустила официальный пресс-релиз, в котором сообщила о доступности полного пакета инструментов для проектирования 7-нм полупроводников. Техпроцесс 7LP создан в содружестве с компанией Samsung и с опорой на опыт бывших инженеров компании IBM, заводы которой с лета 2015 года перешли в собственность GlobalFoundries. В дальнейшем компания сосредоточится на создании 5-нм техпроцесса, который тоже разрабатывается...</p>
<p>The post <a href="https://se7en.ws/globalfoundries-predstavila-paket-instrumentov-dlya-proektirovaniya-7-nm-chipov/">GlobalFoundries представила пакет инструментов для проектирования 7-нм чипов</a> first appeared on <a href="https://se7en.ws">SE7EN</a>.</p>]]></description>
		
					<wfw:commentRss>https://se7en.ws/globalfoundries-predstavila-paket-instrumentov-dlya-proektirovaniya-7-nm-chipov/feed/</wfw:commentRss>
			<slash:comments>0</slash:comments>
		
		
		<media:content url="https://3dnews.ru/assets/external/illustrations/2017/06/14/953920/sm.globalfoundries_semicond.jpg" medium="image"></media:content>
            	</item>
		<item>
		<title>Уровень брака при производстве 10-нм чипов может быть выше ожидаемого</title>
		<link>https://se7en.ws/uroven-braka-pri-proizvodstve-10-nm-chip/</link>
					<comments>https://se7en.ws/uroven-braka-pri-proizvodstve-10-nm-chip/#respond</comments>
		
		<dc:creator><![CDATA[news]]></dc:creator>
		<pubDate>Mon, 26 Dec 2016 06:48:08 +0000</pubDate>
				<category><![CDATA[Техника и IT]]></category>
		<category><![CDATA[10 нм]]></category>
		<category><![CDATA[samsung electronics]]></category>
		<category><![CDATA[tsmc]]></category>
		<category><![CDATA[литография]]></category>
		<category><![CDATA[производство микросхем]]></category>
		<guid isPermaLink="false">https://se7en.ws/uroven-braka-pri-proizvodstve-10-nm-chip/</guid>

					<description><![CDATA[<p>Как известно, некоторое время назад компания Samsung официально сообщила о начале массового производства микросхем с использованием 10-нм FinFET техпроцесса. Компания TSMC также должна уже начать массовый выпуск 10-нм решений, но пока она не делала на этот счёт громких заявлений. В любом случае, к настоящему моменту каждая из этих компаний уже располагает значительными объёмами серийной 10-нм...</p>
<p>The post <a href="https://se7en.ws/uroven-braka-pri-proizvodstve-10-nm-chip/">Уровень брака при производстве 10-нм чипов может быть выше ожидаемого</a> first appeared on <a href="https://se7en.ws">SE7EN</a>.</p>]]></description>
		
					<wfw:commentRss>https://se7en.ws/uroven-braka-pri-proizvodstve-10-nm-chip/feed/</wfw:commentRss>
			<slash:comments>0</slash:comments>
		
		
		<media:content url="https://3dnews.ru/assets/external/illustrations/2016/12/23/944920/sam1.jpg" medium="image"></media:content>
            	</item>
		<item>
		<title>[Перевод] Ведущие производители чипов присматриваются к фотолитографии в глубоком ультрафиолете</title>
		<link>https://se7en.ws/perevod-vedushhie-proizvoditeli-chipov/</link>
					<comments>https://se7en.ws/perevod-vedushhie-proizvoditeli-chipov/#respond</comments>
		
		<dc:creator><![CDATA[news]]></dc:creator>
		<pubDate>Tue, 08 Nov 2016 19:19:41 +0000</pubDate>
				<category><![CDATA[Техника и IT]]></category>
		<category><![CDATA[wafer]]></category>
		<category><![CDATA[изготовление процессоров]]></category>
		<category><![CDATA[литография]]></category>
		<category><![CDATA[подложка]]></category>
		<guid isPermaLink="false">https://se7en.ws/perevod-vedushhie-proizvoditeli-chipov/</guid>

					<description><![CDATA[<p>EUV-сканер ASML NXE:3300B распечатывает чипы в лаборатории политехнического института SUNY Даже после того, как вы натянули защитный костюм и проникли в цех Fab 8, его масштаб сложно оценить. Многие ряды высоких машин-«инструментов», занимают большую часть места на фабрике GlobalFoundries стоимостью $12 миллионов, построенной в лесу г. Олбани штата Нью-Йорк. Тележки с кремниевыми подложками снуют под...</p>
<p>The post <a href="https://se7en.ws/perevod-vedushhie-proizvoditeli-chipov/">[Перевод] Ведущие производители чипов присматриваются к фотолитографии в глубоком ультрафиолете</a> first appeared on <a href="https://se7en.ws">SE7EN</a>.</p>]]></description>
		
					<wfw:commentRss>https://se7en.ws/perevod-vedushhie-proizvoditeli-chipov/feed/</wfw:commentRss>
			<slash:comments>0</slash:comments>
		
		
		<media:content url="https://habrastorage.org/getpro/geektimes/post_images/43f/ad8/cb7/43fad8cb708ef75a81394c9407fd6c4d.jpg" medium="image"></media:content>
            	</item>
		<item>
		<title>Гибридные наноантенны — новая платформа для сверхплотной записи информации и создания наноустройств следующего поколения</title>
		<link>https://se7en.ws/gibridnye-nanoantenny-novaya-platfo/</link>
					<comments>https://se7en.ws/gibridnye-nanoantenny-novaya-platfo/#respond</comments>
		
		<dc:creator><![CDATA[news]]></dc:creator>
		<pubDate>Mon, 02 May 2016 03:49:47 +0000</pubDate>
				<category><![CDATA[Техника и IT]]></category>
		<category><![CDATA[квантовые компьютеры]]></category>
		<category><![CDATA[кванты]]></category>
		<category><![CDATA[литография]]></category>
		<category><![CDATA[нанотехнологии]]></category>
		<category><![CDATA[наночастицы]]></category>
		<category><![CDATA[оптика]]></category>
		<category><![CDATA[фотоны]]></category>
		<guid isPermaLink="false">https://se7en.ws/gibridnye-nanoantenny-novaya-platfo/</guid>

					<description><![CDATA[<p>Объединенная группа российских физиков разработала концептуально новую платформу на основе гибридных металло-диэлектрических наноантенн, открывающую возможность для эффективного управления светом и сверхплотной записи информации. Новая технология открывает возможности изготовления наночипов для оптических компьютеров следующего поколения и позволяет создавать широкий спектр эффективных оптических наноустройств, локализующих, усиливающих и управляющих фотонами света. Результаты исследований опубликованы 27 апреля в научном...</p>
<p>The post <a href="https://se7en.ws/gibridnye-nanoantenny-novaya-platfo/">Гибридные наноантенны — новая платформа для сверхплотной записи информации и создания наноустройств следующего поколения</a> first appeared on <a href="https://se7en.ws">SE7EN</a>.</p>]]></description>
		
					<wfw:commentRss>https://se7en.ws/gibridnye-nanoantenny-novaya-platfo/feed/</wfw:commentRss>
			<slash:comments>0</slash:comments>
		
		
		<media:content url="https://habrastorage.org/getpro/geektimes/post_images/ac2/9d1/72f/ac29d172fc6c6ddab37882603a90ecd1.png" medium="image"></media:content>
            	</item>
	</channel>
</rss>
